產品詳情
北儀優成真空泵——晶圓鍍膜高效真空解決方案
?? 應用場景
北儀優成真空泵專為半導體晶圓鍍膜（PVD/CVD）工藝設計，適用于：
- 金屬鍍膜（Al、Cu、Ti等）
- 介質層沉積（SiO?、Si?N?）
- 光刻膠涂覆前處理
- 離子注入輔助真空
確保鍍膜均勻性、附著力及低缺陷率，滿足5nm以下先進制程的嚴苛要求。
? 產品特點
1.超高真空度
- 極限真空達10?? Pa（根據實際參數調整），快速抽除腔體氣體，減少鍍膜前準備時間。
2. 無油潔凈設計
- 干式泵或分子泵方案可選，杜絕油蒸氣污染，保障晶圓表面零顆粒殘留。
3. 精準壓力控制
- 配備PID調節系統，真空度波動范圍≤±1%，確保鍍膜厚度一致性。
4. 抗腐蝕處理
- 泵腔與鍍膜工藝氣體（如Cl?、SF?）兼容，特殊涂層延長關鍵部件壽命。
?? 核心優勢
對比項
北儀優成真空泵
普通真空泵
真空穩定性
智能反饋控制，波動<1%
手動調節，波動≥5%
潔凈度
全無油設計，ISO 1級
油潤滑，存在污染風險
維護周期
連續運行6個月免維護
每月需更換濾芯/油
能耗
變頻驅動節能30%
定頻運行，能耗高
?? 成功案例
某國際半導體代工廠
- 需求：提升12英寸晶圓銅鍍膜良品率，解決傳統泵顆粒污染問題。
- 方案：定制北儀優成干式螺桿泵+分子泵組，集成原位清洗功能。
- 效果：
- 鍍膜缺陷率下降 72%（從500ppm→140ppm）；
- 抽氣速度提升 40%，單批次產能增加；
- 獲客戶“設備供應商”認證。
北儀優成真空泵通過超高真空、零污染、長壽命三大特性，成為晶圓鍍膜工藝的可靠選擇：
- 降低生產成本：減少維護頻次與廢品率；
-提升技術指標：滿足先進制程對真空環境的要求；
- 靈活適配：支持與AMAT、Lam Research等主流鍍膜設備配套。
